来源：TechNews科技新报
根据《路透社》的报导，日本光学大厂尼康（Nikon）于24日表示，已对荷兰半导体设备大厂艾司摩尔（ASML Holding NV）和合作伙伴卡尔·蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律诉讼，并表示ASML及Carl Zeiss两家公司在未经Nikon的许可下将其微影（lithography）技术专利用于光刻机上，并运用在半导体制造业中。
报导进一步表示，世界第8大芯片设备制造商Nikon在24日指出，已经在荷兰、德国和日本针对生产半导体光刻机的荷兰厂商ASML和旗下光电供应商Carl Zeiss提起了专利侵权案件。Nikon在一份声明中指出，ASML和Carl Zeiss在没有得到许可的情况之下，采用了Nikon的专利技术，运用在ASML的光刻机中。而光刻机是用在全球的半导体制造业中先进制程不可缺少的设备，如此以进一步侵犯了Nikon的专利。Nikon表示，正在寻求损害赔偿，并防止ASML和Carl Zeiss出售该技术。
目前在全球的半导体设备市场中，ASML主导半导体光刻机的产品。根据惠誉评级（Fitch Ratings）在2017年1月份的一份研究报告中指出，这家荷兰公司在这样的高端的半导体设备中，占有90%的市场占有率。而根据ASML在19日所公布的2017年第1季财报显示，第1季营收净利达19.4亿欧元，毛利率为47.6%，EUV极紫外光微影系统的未出货订单则累积到21台，价值高达23亿欧元。而且预估ASML在2017第2季营收净利将落在19到20亿欧元之间，毛利率约为43%到44%。
ASML的总裁兼执行长Peter Wennink对于Nikon所发起的诉讼表示，Nikon所提起的诉讼不但不必要，还毫无根据。而且，这还将对于全球半导体产业造成不确定性。他进一步指出表示，ASML已多次尝试与Nikon协商延长交叉许可协议。
Nikon则表示，法律诉讼是在由美国退休法官于2016年底进行的调解未成之后所决定发起的。而根据Nikon的说法，提起诉讼的3项微影技术专利，ASML和Carl Zeiss两家公司分别在2004年支付Nikon 8,700万美元和5,800万美元的授权金。授权期限在2009年到期，而2014年底其专利权的过渡期也到期之后，双方在2016年底经过调解协商延长交叉许可协议未成。
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