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EUV光刻机相关资讯

日本与荷兰签署半导体合作备忘录,助力采购ASML EUV光刻机

据日经中文网消息,日本经济产业省与荷兰经济事务和气候政策部,于6月21日在东京签署了半导体领域合作备忘录。这一合作的主要目的是推...

ASML EUV光刻机

材料/设备

ASML:数值孔径0.75超高NA EUV光刻设备2030年登场

据日本媒体报导,光刻机设备龙头阿斯麦(ASML)执行副总裁Christophe Fouquet近日在比利时imec年度盛会ITF World 2023表示...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

Rapidus:已筹备1台EUV光刻设备

据日本经济新闻报道,芯片制造商Rapidus表示,已完成1台EUV光刻设备的筹备,预估2027年开始量产,2030-2039年营收将达1万亿日元...

芯片制造 半导体制造 EUV光刻机

制造/封测

ASML将与埃因霍温理工大学合作建立新研究中心 预计耗资数亿欧元

荷兰半导体设备制造商ASML于4月24日表示,将与埃因霍温理工大学(Eindhoven's Technical University)合作建立一个包括无尘室在内的新研...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

ASML:2023年光刻机市场需求将超出产能

受消费电子市场低迷影响,半导体产业迈入下行周期,上游半导体设备也因客户去库存、调整订单受到影响。不过,光刻机龙头企业ASML发布的...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

下一代EUV光刻机什么样?ASML来解答

近日,ASML发布了2022年第四季度及全年财报,并且披露了未来的技术发展路线,其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

88%透光率护膜已量产?传三星自研透光率92%的EUV护膜

据韩国媒体报道,为缩小与对手台积电的市占差距,三星开始开发极紫外光(EUV)护膜。光罩护膜是极紫外光(EUV)微影曝光时的关...

三星 台积电 EUV光刻机

制造/封测

韩企开发石墨烯EUV光罩护膜,瞄准台积电/三星/英特尔等潜在客户

韩国媒体报导,一家韩国公司开发出一种新材料,有望显著提高荷兰半导体设备企业ASML的极紫外光微影曝光设备 (EUV) 的良率...

半导体设备 EUV光刻机 光罩厂

材料/设备

事关EUV光刻技术,中国厂商公布新专利

近日,据国家知识产权局官网消息,华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利,专利申请号为202110524685X...

华为 EUV光刻机 半导体技术

材料/设备

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