2025-09-29
根据外媒Techpowerup报道，近日ASML表示，根据目前的订单资讯和需求，预计2027年将交付10套High-NA EUV和56套EUV光刻机
2025-09-29
近期，半导体光刻机领域动作不断，英特尔和三星等大厂提高了光刻机订单量，与此同时，俄罗斯公布了光刻机研发路线图，旨在推动本土芯片产业发展...
2025-09-03
2025年9月3日，SK海力士宣布，已将业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV*）引进韩国利川M16工厂，并举行了设备入厂庆祝仪式...
2025-07-24
美国半导体初创公司xLight宣布，已完成一轮超额认购的4000万美元B轮股权融资，旨在打造一款新型激光器的首款原型机...
2025-02-27
2月25日，美光（Micron）正式推出基于全新1γ（1-gamma）制程技术的16Gb DDR5存储器，这是美光首次采用极紫外光（EUV）曝光技术。新存储器不...
2025-02-26
据路透社报道，半导体大厂英特尔近日表示，半导体设备大厂阿斯麦（ASML）的首批两台尖端高数值孔径（High NA）光刻机已在其工厂正式投入生产，且早期...
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